荷蘭阿斯麥光刻 ASML 是半導體行業(yè)的供應商,為芯片制造商提供硬件、軟件和服務(wù),以大規模生產(chǎn)集成電路(芯片)。在其 2023 年年度報告中稱(chēng)贊 VSParticle 的旅程不僅體現了其當前的成功,也體現了其重塑材料科學(xué)的創(chuàng )新方法。隨著(zhù) VSParticle 在材料研究方面不斷取得突破,Make Next Platform 的支持將助力推動(dòng)創(chuàng )新和更廣泛的技術(shù)進(jìn)步。
VSParticle 火花燒蝕納米氣溶膠沉積系統可用于 MEMS 制造氣體傳感器氣敏涂層,電催化劑涂層的制備,是為數不多可以在常壓狀態(tài)下制備 20nm 以下納米粒子的氣相沉積方法。目前已在浙江大學(xué),東南大學(xué),北京工業(yè)大學(xué),中科院物理所,中南大學(xué),廣東工業(yè)大學(xué)等學(xué)術(shù)機構以及企業(yè)裝機?;鸹g沉積技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)已被眾多學(xué)者證明,在 Nature,Matter, Advanced Functional Materials 等高水平期刊發(fā)表相關(guān)文章,是新型納米制造的利器。
Part 1 VSParticle 和 ASML 有什么聯(lián)系?
VSParticle (VSP) 起源于荷蘭代爾夫特理工大學(xué),其使命是解鎖新型高科技材料。隨著(zhù)氣候變化問(wèn)題愈加嚴重,現代社會(huì )對于太陽(yáng)能、風(fēng)能、電動(dòng)汽車(chē)等可持續技術(shù)的需求更加緊迫,也創(chuàng )造出更多對于新材料的需求。但問(wèn)題是,大多數能源應用都需要納米多孔材料,而目前還沒(méi)有成熟的制造工藝。
VSP 開(kāi)發(fā)了一種納米材料合成和沉積工藝,該工藝針對制造納米多孔材料進(jìn)行了全面優(yōu)化。其中 VSP P1 納米印刷沉積設備可通過(guò)火花燒蝕技術(shù)將任何固體導電材料轉化為非常小且純凈的納米顆粒,這些納米顆粒由載氣輸送到沉積階段,由此構建新的納米多孔材料。
為了在未來(lái) 10 年開(kāi)啟 100 年的材料創(chuàng )新之路,VSP 正在將其技術(shù)引入到世界各地大學(xué)和研究所的材料研發(fā)活動(dòng)以及工業(yè)制造中,當前在全球銷(xiāo)售近 50 套研發(fā)系統,并正在加速生產(chǎn)工具的開(kāi)發(fā)。
Make Next Platform 助力 VSP
為了獲得 ASML 等原始設備制造商公司的支持,并結合企業(yè)下一步發(fā)展計劃, VSP 于 2022 年 11 月加入 Make Next Platform 平臺。
關(guān)于 Make Next Platform:Make Next Platform 由原始設備制造廠(chǎng)商 ASML、Huisman、Vanderlande 和 Stichting TechnologyRating 于 2016 年創(chuàng )立。Thales NL 于 2019 年作為聯(lián)合創(chuàng )始人加入。他們共同支持年輕、創(chuàng )新、有前途的高科技公司擴大其活動(dòng)規模。他們利用自己的網(wǎng)絡(luò )、能力、專(zhuān)業(yè)知識和經(jīng)驗來(lái)回答平臺內高科技公司在發(fā)展過(guò)程中遇到的問(wèn)題。
由此 VSP 的管理團隊每季度都會(huì )與 Marco Wieland(ASML 院士)和 Remko de Lange(Vanderlande 戰略副總裁)會(huì )面,以改進(jìn)公司的總體戰略。
會(huì )議內容包括深入探討如何在硬件開(kāi)發(fā)中應用 Scrum 和基于價(jià)值的定價(jià)等主題,并邀請 ASML 的多位專(zhuān)家參與其中,這些支持成功地促進(jìn)了 VSP 的增長(cháng)。從 ASML 等公司獲得正確的見(jiàn)解與指導將幫助 VSP 具備足夠的能力克服挑戰并在未來(lái)的動(dòng)態(tài)歲月中取得成功。
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“Make Next Platform認為 VSP 的火花燒蝕技術(shù)是一項突破性技術(shù),有可能有助于實(shí)現能源轉型。對我個(gè)人來(lái)說(shuō),很高興有機會(huì )近距離見(jiàn)證一家可能產(chǎn)生如此重要影響的公司的發(fā)展 , 我很高興能夠通過(guò)指導他們來(lái)貢獻自己的一點(diǎn)力量。”- Marco Wieland,ASML 研究員。
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“VSParticle 的納米材料創(chuàng )新正在加速解決氣候變化和能源危機。與他們合作激發(fā)了我提供專(zhuān)業(yè)知識和助力其擴大規模的熱情。反過(guò)來(lái),他們的創(chuàng )業(yè)精神也給了我靈感”- Remko de Lange,戰略副總裁,Vanderlande 。
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“在 Make Next Platform 的幫助下,VSParticle 可以站在行業(yè)巨人的肩膀上實(shí)現增長(cháng)。來(lái)自 ASML 和 Vanderlande 等制造商的支持,為我們提供了豐富的知識,幫助我們構建公司結構并定義關(guān)鍵流程。我們將利用 ASML 的供應鏈助力 VSParticle 進(jìn)入工業(yè)市場(chǎng),關(guān)注用于綠色氫氣生產(chǎn)的催化劑涂層膜 (CCM) 和下一代氣體傳感技術(shù)。”- Aaike van Vugt,執行官兼聯(lián)合創(chuàng )始人,VSParticle。
Part 2 關(guān)于 VSParticle P1 納米印刷沉積系統
VSParticle-P1 納米印刷沉積系統,可以實(shí)現具有無(wú)機納米結構材料的打印直寫(xiě)。這些顆粒通常小于 10 nm,而且沒(méi)有引入任何的化學(xué)添加劑和墨水組分,可以較大程度保留顆粒本身的性質(zhì)。該打印系統還提供打印不同成分和厚度的納米多孔層的選項。
VSP-P1 納米印刷沉積系統
性能參數
模塊化設計:內置的納米顆粒發(fā)生器模塊可獨立使用
顆粒產(chǎn)生方式:等離子火花放電
支持材料:金屬,金屬氧化物,合金,部分半導體材料,碳等
初始顆粒粒徑:1-20 nm
實(shí)現功能:團簇顆粒的圖案化沉積
載氣及運行環(huán)境:常壓常溫,1-25 SLM 氮氣 / 氬氣
打印區域:15 × 15 cm
線(xiàn)寬控制:最小 100 um
涂層厚度:團簇-微米級
應用領(lǐng)域:電催化,傳感器,線(xiàn)路互聯(lián),增強拉曼等